鹤壁低温恒温反应浴 槽原理 dfy-k8凯发天生赢家

低温恒温槽应用范围： 对半导体制造装置发热部的冷却：单晶片洗净转载、印刷机、自动夹座安装装置、喷涂装置、离子镀装置、蚀刻装置、单晶片处理装置、切片机、包装机、显影剂的温度管理、露光装置、生磁部分的加热装置等。对激光装置发热部分的冷却：激光加工、熔接机的发热部分、激光标志装置、发生装置、二氧化碳激光加工机等
低温恒温反应浴是参照日本东京理化器械株式会社的产品生产的一种新型实验仪器，特别适用于密闭条件下的有机合成及其他化学反应，是现代化学、生物制药及化学制药等实验、大专院校、科研院所的设备

在使用低温恒温槽是，一般情况下不要自行修改各个参数，除测量值修正可以修改； 低温恒温槽使用电源50hz 220v,电源的功率一定要大于或者等于一起的总功率，电源bi须要有良好的"接地"装置。

底部带有磁力搅拌，可带动槽内磁力搅拌，使温度充分均匀，

特点：采用全封闭压缩机制冷，具有降温速度快、噪音低、性能、质量可靠等特点。
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